Экспози́ция (в фотографии) — произведение освещенности светочувствительной матрицы (фотоплёнки) на время освещения. Выражается в лк*с (люксах на секунды). Экспозиция должна быть такой величины, чтобы позволить фотоматериалу с заданной чувствительностью получить количество света, нужное для сохранения изображения – это техническая характеристика каждой светочувствительной матрицы (фотоплёнки). Чем больше светочувствительность (ISO 50/100/200/400/800/1600/3200) матрицы (фотоплёнки), тем меньшая требуется экспозиция. Экспопара (выдержка и диафрагма) – технический синоним термина экспозиция. В некоторых современных видах оборудования (например, SIMD-матрицы, камеры cветового поля (англ. Light Field) и Foveon X3) представление об экспозиции (а также о выдержке и диафрагме) можно относить не тол
Экспози́ция (в фотографии) — произведение освещенности светочувствительной матрицы (фотоплёнки) на время освещения. Выражается в лк*с (люксах на секунды). Экспозиция должна быть такой величины, чтобы позволить фотоматериалу с заданной чувствительностью получить количество света, нужное для сохранения изображения – это техническая характеристика каждой светочувствительной матрицы (фотоплёнки). Чем больше светочувствительность (ISO 50/100/200/400/800/1600/3200) матрицы (фотоплёнки), тем меньшая требуется экспозиция. Экспопара (выдержка и диафрагма) – технический синоним термина экспозиция. В некоторых современных видах оборудования (например, SIMD-матрицы, камеры cветового поля (англ. Light Field) и Foveon X3) представление об экспозиции (а также о выдержке и диафрагме) можно относить не только к фотоматериалу или устройству в целом, но и к отдельным его элементам и сочетаниям элементов.